某半导体器件基带芯片代加工厂厂在晶圆代加工期间中，实用硅烷来硅外延性繁殖，废气排放洗衣机清洗塔行成高氧化还原电位含硅焦化化工废水。焦化化工废水有pH振幅大（2-11）、硅含水量高的性能，传统的处里步骤易出来硅垢堵塞了问題。 废液成份及主要来源 电镀废水其主要组分为： 溶解度性硅酸盐 ：SiO₂氨水浓度达1000-1500mg/L 磷酸/氢氧化物钠 ：洗衣机清洗塔腐蚀性洗衣机清洗液残渣 颗粒物硅 ：微米级SiO₂溶液 痕量砷 ：材质杂物带进 净化处理艺方案 自主创新选择"两极中合+膜过滤系统+汽化析出"工艺流程： 七级结合 ：用CaO调准pH至4-5，形成硅酸钙发展，硅删去率60%。 三级结合 ：加Na₂CO₃将pH优化至9，进1步沉淀物中剩的硅，电容串联用镁剂除砷。 超滤膜系统 ：0.02μm瓷器膜筛选纳米技术级硅粒状，通量比较稳定在80LMH。 MVR化掉器 ：高浓高盐废液，成果出Na₂SO₄副护肤品，水循环率超90%。 结果是疗效 总硅从1500mg/L降落到5mg/L以內 砷分子量从0.8mg/L降到0.01mg/L 体统无积灰启用不超2年 每月收集硫酸钠钠氯化钠晶体约800吨